ФРАСТ-МЗакрытое Акционерное Общество НачалоОтправить письмо
---
---
|
|
---

Импортозамещение

Техническая документация

Какой фоторезист выбрать

Вопросы и ответы по жидким фоторезистам

Фоторезист для мезоструктур

Фоторезист в аэрозольной упаковке

Для контроля дозы экспонирования мы рекомендуем УФ-Радиометр "ТКА-ПКМ"(06) с поверкой

Фоторезисты позитивные для электроники

Фоторезисты позитивные для производства печатных плат

Фоторезисты негативные для электроники

Фоторезисты для полиграфии

Фоторезист для обращенной литографии

Сниматель пленок фоторезиста СПР-01Ф

Сниматаль резистов универсальный СР-13Ф

Универсальный проявитель для жидких позитивных фоторезистов УПФ-1Б

Проявитель ПрФ-131 для фоторезиста SU-8

Проявитель позитивных фоторезистов для голографии ПГФ-1А.

Разбавители для позитивных фоторезистов

Фоторезист ФП-М-09 марок А,В и С (ТУ 2378-013-29135749-2010)

Предназначены для использования в качестве защитного светочувствительного материала в фотолитографических процессах при изготовлении полупроводниковых приборов, интегральных схем, металлизированных шаблонов, шкал, сеток, печатных плат и др.

No Характеристики Норма
ФП-М-09А ФП-М-09B ФП-М-09C
1 Внешний вид фоторезиста Жидкость красно-корич цвета без осадка
2 Внешний вид пленки фоторезиста Гладкая, блестящая, без разрывов
3 Кинематическая вязкость при (20+0,5) °C мм2/сек 12,2-17,4 18,2-28,3 24,0-34,3
4 Минимальная ширина воспроизводимого элемента, мкм, не хуже 0,8 1,2 1,8
5 Толщина пленки фоторезиста, мкм 0,9-1,1 1,4-1,6 1,9-2,1
6 Устойчивость пленки фоторезиста к проявителю, мин., не менее 30 30 30
7 Рекомендуемый проявитель УПФ-1Б

ТУ 2378-013-29135749-2010 на серию ФП-М-09 в формате PDF, 301 кБ

Фоторезист ФП-383 (ТУ 2378-005-29135749-2007)

Предназначен для реализации фотолитографических процессов в производстве полупроводниковых приборов и интегральных схем, металлизированных шаблонов, шкал, сеток, печатных плат.

No Характеристики Норма
1 Внешний вид фоторезиста Жидкость красно-корич цвета без осадка
2 Внешний вид пленки фоторезиста блестящая без разрывов
3 Относительная скорость фильтрации, отн. ед., не более 2,0
4 Кинематическая вязкость при (20+0,5) °C мм2/сек 6,0 - 6,5
5 Разрешающая способность, мкм, не более 1,0
6 Толщина пленки фоторезиста, мкм 1,0 - 1,2
7 Число оборотов при нанесении, об/мин 3000,0
8 Устойчивость пленки фоторезиста к проявителю, мин., не менее 15,0
9 Рекомендуемый проявитель УПФ-1Б

 

Рекомендации по применению
ТУ 2378-005-29135749-2007 на ФП-383 в формате PDF, 345 кБ

Фоторезист ФП-25 (ТУ 2378-004-29135749-2007)

Предназначен для реализации фотолитографических процессов в производстве полупроводниковых интегральных приборов и микросхем с глубинным травлением германия и кремния, гальваническим осаждением металлов.

No Характеристики Норма
1 Внешний вид фоторезиста Жидкость красно-корич цвета без осадка
2 Внешний вид пленки фоторезиста Гладкая без разрывов
3 Разрешающая способность, мкм, не более 20,0
4 Толщина пленки фоторезиста, мкм 6 - 8
5 Устойчивость пленки фоторезиста к травителю для кремния (HF+HNO3+CH3COOH - 1:10:1), не менее, минут 14,0
6 Рекомендуемый проявитель УПФ-1Б

 

Рекомендации по применению
ТУ 2378-004-29135749-2007 на ФП-25 в формате PDF, 267 кБ

Фоторезист ФП-9120 (ТУ 2378-015-29135749-2015)

Предназначен для реализации фотолитографических процессов в производстве СБИС

No

Характеристики

Норма
ФП-9120-1,0 ФП-9120-1,8 ФП-9120-2,0

Основные параметры

1 Внешний вид фоторезиста Прозрачная жидкость желто-коричневого цвета без осадка
2 Внешний вид пленки фоторезиста Блестящая без разрывов
3 Кинематическая вязкостьпри темпиратуре 20±0,50С 13-17 32-35 41-43
4 Толщина пленки фоторезиста, мкм 1,1-1,3 1,7-1,9 1,9-2,3
5 Устойчивость пленки фоторезиста к проявителю не менее, мин >30 >30 >30
6 Относительная скорость фильтрации фоторезиста, отн. ед., не более 1,05 1,15 1,2
7 Проявитель УПФ-1Б УПФ-1Б УПФ-1Б

Справочные параметры

8 Минимальная ширина воспроизводимого элементы, мкм 1,0 1,0 2,0
9 Адгезия пленки фоторезиста к поверхности окисла кремния Отсутствие отслаивания элементов шириной 2 мкм
10 Массовая доля воды в фоторезисте, % не более 1,0 1,0 1,0
11 Сниматель СПР-01Ф СПР-01Ф СПР-01Ф
12 Гарантийный срок хранения, месяцев 6 6 6

Паспорт безопасности
ТУ на ФП-9120 в формате PDF

Фоторезист ФП-9120 экстра (ТУ 2378-016-29135749-2015)

Предназначен для реализации фотолитографических процессов в производстве СБИС

No

Характеристики

Норма
ФП-9120-1,0 ФП-9120-1,8 ФП-9120-2,0

Основные параметры

1 Внешний вид фоторезиста Прозрачная жидкость желто-коричневого цвета без осадка
2 Внешний вид пленки фоторезиста Блестящая без разрывов
3 Кинематическая вязкостьпри темпиратуре 20±0,50С 13-17 32-35 41-43
4 Толщина пленки фоторезиста, мкм 1,1-1,3 1,7-1,9 1,9-2,3
5 Устойчивость пленки фоторезиста к проявителю не менее, мин >30 >30 >30
6 Относительная скорость фильтрации фоторезиста, отн. ед., не более 1,05 1,15 1,2
7 Проявитель УПФ-1Б или MF-26A УПФ-1Б или MF-26A УПФ-1Б или MF-26A

Справочные параметры

8 Минимальная ширина воспроизводимого элементы, мкм 0,8 1,2 1,5
9 Уровень фильтрации фоторезиста, мкм 0,1 0,2 0,2
10 Адгезия пленки фоторезиста к поверхности окисла кремния Отсутствие отслаивания элементов шириной 2 мкм
11 Массовая доля воды в фоторезисте, % не более 0,5 0,5 0,5
12 Термостойкость пленки фоторезиста, 0С 130 130 130
13 Светочувствительность, мДж/см2 40 50 70
14 Содержание микропримесей металлов, % 10-4 10-4 10-4
15 Сниматель СПР-01Ф СПР-01Ф СПР-01Ф
16 Гарантийный срок хранения, месяцев 12 12 12

Паспорт безопасности
ТУ на ФП-9120 экстра в формате PDF

Фоторезист ФП-РН-7С (ТУ Ф-11833389-0-2003)

Предназначен для реализации фотолитографических процессов в производстве полупроводниковых приборов, шкал, сеток.

No Характеристики Норма
1 Внешний вид фоторезиста Жидкость красно-коричневого цвета без осадка
2 Внешний вид пленки фоторезиста Гладкая, блестящая без разрывов
3 Кинематическая вязкость при (20+0,5) °C мм2/сек 9,5-13,0
4 Разрешающая способность, мкм, не более 0,8
5 Толщина пленки фоторезиста, мкм 0,9 - 1,1
6 Число оборотов при нанесении, об/мин 3000,0
7 Рекомендуемый проявитель УПФ-1Б

ТУ Ф-11833389-0-2003 на ФП-РН-7С с изм.1 в формате PDF, 321 кБ

Фоторезист ФП-РН-7Сэ (ТУ Ф 2378-006-29135749-2007)

Предназначен для реализации фотолитографических процессов в производстве полупроводниковых приборов, шкал, сеток. Единственный отечественный фоторезист, который может наноситься распылением на подложки с сильно развитой топологией.

No Характеристики Норма
1 Внешний вид фоторезиста Жидкость красно-коричневого цвета без осадка
2 Внешний вид пленки фоторезиста Гладкая, блестящая без разрывов
3 Кинематическая вязкость при (20+0,5) °C мм2/сек 2,2-2,7
4 Разрешающая способность, мкм, не более 1,0
5 Толщина пленки фоторезиста, мкм 0,5 - 0,8
6 Число оборотов при нанесении, об/мин 3000,0
7 Рекомендуемый проявитель УПФ-1Б

ТУ Ф-2378-006-29135749-2007 на ФП-РН-7Сэ в формате PDF, 506 кБ

Фоторезист ФП-4-04 марок А,В и С (ТУ 2378-011-29135749-2010)

Предназначен для реализации фотолитографических процессов в производстве полупроводниковых приборов, больших и сверхбольших интегральных схем с использованием контактного и проекционного экспонирования в области длин волн 300-405 нм. Выпускается трех марок А, В и С

No Характеристики Норма
 марка А марка B марка C
1 Внешний вид фоторезиста Жидкость красно-корич цвета без осадка
2 Внешний вид пленки фоторезиста Гладкая, блестящая, без разрывов
3 Кинематическая вязкость при (20+0,5) °C мм2>2/сек 5,0-9,5 18,2-28,3 24,0-34,3
4 Минимальная ширина воспроизводимого элемента, мкм, не хуже 0,5 1,2 1,8
5 Толщина пленки фоторезиста, мкм 0,4-0,6 1,35-1,65 1,8-2,2
6 Устойчивость пленки фоторезиста к проявителю, мин., не менее 30 30 30
7 Рекомендуемый проявитель УПФ-1Б

ТУ 2378-011-29135749-2010 на ФП-4-04 марок А,В и С в формате PDF, 300 кБ

Фоторезист ФП-27-18БС (ТУ Ф-11733389-0-2003)

Предназначен для реализации фотолитографических процессов в производстве печатных плат, микросхем, сеток, шкал, масок с применением гальванической обработки.

Выпускается два типа: марка А (синезеленого цвета) и марка Б (краснокоричневого цвета)

N No Характеристики Норма
1 Внешний вид фоторезиста Жидкость красно-корич или синезеленого цвета без осадка
2 Внешний вид пленки фоторезиста Гладкая без разрывов
3 Кинематическая вязкость, сСт 22,0 - 40,0
4 Разрешающая способность, мкм, не более 3,0
5 Толщина пленки фоторезиста, мкм 2,3 - 2,8
6 Рекомендуемый проявитель УПФ-1Б
7 Светочувствительность, мдж/см2, не хуже 150,0

ТУ Ф-11733389-0-2003 на ФП-27-18БС с изм.1 в формате PDF, 651 кБ

Фоторезист ФП-4-04Т

Толстослойный фоторезист с повышенной термостойкостью и пластичностью для i-линии ртутных ламп.

Предназначен для реализации фотолитографических процессов в производстве полупроводниковых интегральных приборов и микросхем с глубинным травлением германия и кремния.

No Характеристики Норма
1 Внешний вид фоторезиста Прозрачная жидкость красно-корич цвета без осадка
2 Внешний вид пленки фоторезиста Гладкая, без разрывов
3 Разрешающая способность, мкм, не хуже 8.0
4 Толщина пленки фоторезиста , мкм 3.6-4.5
5 Рекомендуемый проявитель УПФ-1Б

ТУ 2378-010-29135749-2010 на ФП-4-04Т в формате PDF, 285 кБ

Фоторезист ФП-201

Толстослойный фоторезист с повышенной термостойкостью для реализации фотолитографических процессов в производстве полупроводниковых интегральных приборов и микросхем с глубинным травлением германия, кремния, арсенида галлия и металлов, а также для гальванического осаждения металлов.

No Характеристики Норма
ФП-201
1 Внешний вид фоторезиста Прозрачная жидкость красно-корич цвета без осадка
2 Внешний вид пленки фоторезиста Гладкая, без разрывов
3 Разрешающая способность, мкм, не хуже 20,0
4 Толщина пленки фоторезиста , мкм 6,0-8,0
5 Рекомендуемый проявитель УПФ-1Б

Фоторезист ФП-051Т

Фоторезист ФП-051Т (ТУ 6-14-919-86) предназначен для реализации фотолитографических процессов в производстве больших интегральных схем

No Характеристики Норма
ФП-051Т
1 Внешний вид фоторезиста Жидкость красно-корич цвета без осадка
2 Внешний вид пленки фоторезиста Гладкая без разрывов
3 Кинематическая вязкость при (20+0,5) °C мм2>2/сек 15,5 - 19,5
4 Разрешающая способность, мкм, не более 2,0
5 Толщина пленки фоторезиста, мкм 1,3
6 Устойчивость пленки фоторезиста к проявителю, мин., не менее 15,0
7 Рекомендуемый проявитель УПФ-1Б

Фоторезист ФП-051Ку (ТУ Ф-11833392-0-2006)

Предназначенный для использования в качестве защитного светочувствительного материала в фотолитографических процессах при изготовлении полупроводниковых приборов, интегральных схем, металлизированных шаблонов, шкал, сеток, печатных плат и др.

No Характеристики Норма
ФП-051Ку-1,0 ФП-051Ку-2,0
1 Внешний вид фоторезиста Жидкость темно-красного цвета без осадка
2 Внешний вид пленки фоторезиста Гладкая без разрывов
3 Кинематическая вязкость при (20+0,5) °C мм2/сек 11,0-21,0 21,0-41,0
4 Разрешающая способность, мкм, не более 1,8 1,8
5 Толщина пленки фоторезиста, мкм 1,0-1,1 2,0-2,1
6 Устойчивость пленки фоторезиста к проявителю, мин., не менее 30,0 30,0
7 Рекомендуемый проявитель УПФ-1Б

ТУ Ф-11833392-0-2006 на ФП-051Ку в формате PDF, 594 кБ

Фоторезист ФП-051Ки

Единственный отечественный фоторезист предназначенный для процессов травления ионной бомбардировкой (РИТ)

No Характеристики Норма
1 Внешний вид фоторезиста Жидкость темно-красного цвета без осадка
2 Внешний вид пленки фоторезиста Гладкая без радиальных полос
3 Светочувствительность, мДж/см2, не более 60
4 Разрешающая способность, мкм, не более 2,0
5 Толщина пленки фоторезиста, мкм 1,5-1,6
6 Устойчивость пленки фоторезиста к проявителю, мин., не менее 30,0
7 Термостойкость, 0C, не менее 130
8 Рекомендуемый проявитель УПФ-1Б

Фоторезист ФП-051Шу-0,5 и ФП-051Шу-1,0 (ТУ 2378-012-29135749-2010)

Предназначен для реализации фотолитографических процессов в производстве фотошаблонов, для изготовления предварительно очувствленных заготовок фотошаблонов. Может использоваться в качестве защитного светочувствительного материала в фотолитографических процессах при изготовлении полупроводниковых приборов, интегральных схем, металлизированных шаблонов, шкал, сеток, печатных плат и др.

No Характеристики Норма
ФП-051Шу-0,5 ФП-051Шу-1,0
1 Внешний вид фоторезиста Жидкость темно-красного цвета без осадка
2 Внешний вид пленки фоторезиста Гладкая без разрывов
3 Кинематическая вязкость при (20+0,5) °C мм2/сек 5,0-9,5 12,2-17,4
4 Разрешающая способность, мкм, не более 0,5 0,8
5 Толщина пленки фоторезиста, мкм 0,4-0,6 0,9-1,1
6 Устойчивость пленки фоторезиста к проявителю, мин., не менее 30,0 30,0
7 Рекомендуемый проявитель УПФ-1Б

ТУ 2378-012-29135749-2010 на ФП-051Шу-0,5 и ФП-051Шу-1,0 в формате PDF, 294 кБ

Фоторезист ФП-05Ф, ФП-10Ф, ФП-15Ф, ФП-20Ф (ТУ Ф-11533389-0-2002)

Предназначен для реализации контактных и проекционных фотолитографических процессов в производстве полупроводниковых приборов и интегральных схем.

No Характеристики Норма
ФП-05Ф ФП-10Ф ФП-15Ф ФП-20Ф
1 Внешний вид фоторезиста Жидкость темно-красного цвета
2 Внешний вид пленки фоторезиста Гладкая без радиальных полос
3 Относительная скорость фильтрации, отн. ед., не более 0,01 (г-1) 0,01 (г-1) 0,01 (г-1) 0,01 (г-1)
4 Массовая доля воды, в процентах, не более 1,0 1,0 1,0 1,0
5 Разрешаюшая способность, мкм, не более 0,5 0,8 1,2 1,8
6 Толщина пленки фоторезиста, мкм 0,45-0,55 1-1,1 1,5-1,6 2,0-2,1
7 Кинематическая вязкость, сСт 6,0-11,0 11,0-21,0 15,0-35,0 21,0-41,0
8 Термостойкость, град.Цельсия 140,0 140,0 140,0 140,0
9 Устойчивость пленки фоторезиста к проявителю, мин., не менее 25,0 30,0 30,0 30,0
10 Локальная разнотолщинность пленки, нм, не более 10 10 10 10
11 Светочувствительность, мдж/см2, не более 40 50 65 80
12 Адгезия фоторезиста по 2 мкм. элементу хорошая
13 Проявитель УПФ-1Б

ТУ Ф-11533389-0-2002 на ФП-05Ф - ФП-20Ф с изм. 1 в формате PDF, 675 кБ

 

Фоторезисты негативные (ТУ Р-11433386-4-О-92)

Предназначены для реализации фотолитографических процессов в производстве интегральных микросхем, масок, гибких выводных рамок на основе фольгированных диэлектриков, печатных микроплат, форм, и других изделий с использованием кислых и щелочных травителей металлов и сплавов (медь, алюминий, нихром и др.), для гальванического осаждения металлов.

 

No Характеристики Норма
ФН-11Су (выпуск прекращен ) ФН-11СКу (выпуск прекращен)
1 Внешний вид фоторезиста Прозрачная жидкость коричневого цвета
2 Внешний вид пленки фоторезиста Гладкая без разрывов
3 Кинематическая вязкость при (20+0,5) °C мм2/сек 10-13 140-160
4 Разрешающая способность, мкм, не более 8,0 8,0
5 Проявитель Уайт-спирит

ТУ Р-11433386-4-О-92 на ФН-11Су и ФН-11СКу с изм.1 и 2 в формате PDF, 406 кБ

Фоторезисты ФН-11Сн и ФН-11СКн

Предназначены для реализации фотолитографических процессов в производстве интегральных микросхем, масок, гибких выводных рамок на основе фольгированных диэлектриков, микрополосковых плат, форм. Обладают стойкостью в кислых и щелочных травителях для металлов и сплавов (медь, алюминий, нихром и др.).

No Характеристики Норма
ФН-11Сн ФН-11СКн
1 Внешний вид фоторезиста Прозрачная жидкость
2 Внешний вид пленки фоторезиста Гладкая без разрывов
3 Кинематическая вязкость при (20+0,5) °C мм2/сек 25-30 180-250
4 Разрешающая способность, мкм, не более 8,0 8,0
5 Толщина пленки, мкм 0,9-1,1 3,5-4,5
6 Проявитель Уайт-спирит

Фоторезист ФН-11С-ФД

Предназначен для реализации фотолитографических процессов в производстве гибких выводных рамок на основе фольгированных диэлектриков методом вытягивания.

No Характеристики Норма
ФН-11С-ФД
1 Внешний вид фоторезиста Прозрачная жидкость без осадка, допускается слабый желтый окрас
2 Внешний вид пленки фоторезиста Гладкая, блестящая, без разрывов
3 Кинематическая вязкость при (20+0,5) °C мм2/сек 24,2-26,7
4 Разрешающая способность, мкм, не более 8,0
5 Проявитель Уайт-спирит

ТУ 2378-014-29135749-2010 на фоторезист ФН-11Сн и ФН-11СКн с изм. 1 в формате PDF, 156 кБ

Фоторезист ФН-11С-МФ

Фоторезист ФН-11-МФ целесообразно использовать в производстве гибридных интегральных микросхем, микроузлов, микросборок, микроплат, работающих в жестких условиях в диапазонах низкой (НЧ), высоких (ВЧ) и сверхвысоких частот (СВЧ). Благодаря низкому содержанию примесей металлов, фоторезист ФН-11С-МФ не меняет электроизоляционные свойства подложки ГИС. Фоторезист может применяться также в качестве светочувствительного, конструкционного, изолирующего материала. Фоторезист ФН-11С-МФ устойчив как в кислых, так и щелочных растворах в процессах травления и в процессах гальванического осаждения металлов.

No Характеристики Норма
ФН-11С-МФ
1 Внешний вид фоторезиста Прозрачная жидкость
2 Внешний вид пленки фоторезиста Гладкая, блестящая, без разрывов
3 Уровень фильтрации, мкм 0,2
4 Кинематическая вязкость при (20+0,5) °C мм2/сек 24,0-26,0
5 Разрешающая способность, мкм, не более 8,0
6 Рекомендуемый проявитель УНФ-02-МФ
7 Содержание микропримесей металл, ppm менее 10

Поставляется по протоколу

Фоторезист ФП-ПЛ5

Фоторезист ФП-ПЛ5 предназначен для изготовления предварительно очувствленных офсетных пластин

No Характеристики Норма
1 Внешний вид фоторезиста Вязкая жидкость синего цвета
2 Внешний вид пленки фоторезиста Блестящая, без разрывов
3 Кинематическая вязкость при (20+0,5) °C мм2/сек 17,0
4 Разрешающая способность, мкм, не хуже 15,0
5 Толщина пленки фоторезиста, мкм 2,0
6 Устойчивость пленки фоторезиста к проявителю, мин., не менее 20,0
7 Светочувствительность, мдж/см2, не хуже 150,0

Фоторезист ФПН-20-ИЗО

Фоторезист ФПН-20-ИЗО является позитивным фоторезистом, однако, способен к обращению изображения с образованием негативного образа маски. Предназначен для использования в технике взрывной литографии. 

No Наименования показателя Норма показателя Норма показателя
1 Вязкость сСт 17-20
2 Толщина сходная мкм 1,8-2,2
3 Чувствительность мдж/см2  30-60
4 Стойкость в проявителе позитивного изображения, не менее мин 30
5 Проявитель УПФ-1Б

 

Инструкция по применению ФПН-20-ИЗО

Сниматель пленок фоторезиста СПР-01Ф

СПР-01Ф предназначен для снятия с подложки сильно структурированных пленок позитивных фоторезистов.

No Наименования показателя Норма показателя
1 Внешний вид прозрачная бесцветная жидкость
2 Температура кипения, 0С 195-205

 

Инструкция по применению СПР-01Ф

ТУ-2378-008-29135749-2007 на сниматель СПР-01Ф в формате PDF, 184 кБ

Универсальный сниматель пленок резистов СР-13Ф

Сниматель СР-13Ф предназначен для эффективного удаления пленок импортных фоторезистов, электронорезистов, негативных резистов на эпокси смолах серии SU-8, LOR резистов и других.

No Наименования показателя Норма показателя
1 Внешний вид бесцветная или светложелтая жидкость
2 Температура кипения, 0С 201-202

 

Инструкция по применению СР-13Ф

Универсальный буферный проявитель для жидких позитивных фоторезистов УПФ-1Б

Предназначен для проявления пленок позитивных фоторезистов как отечественного, так и импортного производства.  

Проявитель УПФ-1Б является концентратом, требующим разбавления дистиллированной или деионизованной водой.

No Наименования показателя Норма показателя
1 Внешний вид прозрачная бесцветная жидкость
2 Концентрация раствора, г/моль 1,42-1,45

Инструкция по применению УПФ-1Б

ТУ-2378-007-29135749-2007 на проявитель УПФ-1Б в формате PDF, 235 кБ

Проявитель позитивных фоторезистов для голографии ПГФ-1А.

ПГФ-1А предназначен для проявления скрытого голографического изображения в позитивном фоторезисте после экспонирования лазерным излучением. Используется в процессах изготовления мастер-диска.

No Наименования показателя Норма показателя
1 Внешний вид прозрачная бесцветная жидкость
2 Концентрация раствора, г/моль 1,67-1,73
Инструкция по применению ПГФ-1А
---
|
|
---
---
Plant.ruTopListSpyLOG