ФРАСТ-МЗакрытое Акционерное Общество НачалоОтправить письмо
---
---
|
|
---

Фоторезист ФП-383 (ТУ 2378-005-29135749-2007)

Предназначен для реализации фотолитографических процессов в производстве полупроводниковых приборов и интегральных схем, металлизированных шаблонов, шкал, сеток, печатных плат.

No Характеристики Норма
1 Внешний вид фоторезиста Жидкость красно-корич цвета без осадка
2 Внешний вид пленки фоторезиста блестящая без разрывов
3 Относительная скорость фильтрации, отн. ед., не более 2,0
4 Кинематическая вязкость при (20+0,5) °C мм2/сек 6,0 - 6,5
5 Разрешающая способность, мкм, не более 1,0
6 Толщина пленки фоторезиста, мкм 1,0 - 1,2
7 Число оборотов при нанесении, об/мин 3000,0
8 Устойчивость пленки фоторезиста к проявителю, мин., не менее 15,0
9 Рекомендуемый проявитель УПФ-1Б

 

Рекомендации по применению
ТУ 2378-005-29135749-2007 на ФП-383 в формате PDF, 548 кБ

Фоторезист ФП-4-04 (ТУ 2378-011-29135749-2010)

Предназначен для реализации фотолитографических процессов в производстве полупроводниковых приборов, больших и сверхбольших интегральных схем с использованием контактного и проекционного экспонирования в области длин волн 300-405 нм. Выпускается трех марок А, В и С

No Характеристики Норма
марка A марка B марка C
1 Внешний вид фоторезиста Жидкость красно-корич цвета без осадка
2 Внешний вид пленки фоторезиста Гладкая без разрывов
3 Относительная скорость фильтрации, отн. ед., не более 2,0 2,0 2,0
4 Кинематическая вязкость при (20+0,5) °C мм2/сек 4,5 15,0 21,5
5 Разрешающая способность, мкм, не более 2,0 2,0 2,0
6 Толщина пленки фоторезиста, мкм 0,5 1,5 2,0
7 Число оборотов при нанесении, об/мин 3000,0 3000,0 3000,0
8 Устойчивость пленки фоторезиста к проявителю, мин., не менее 10,0 12,0 15,0
9 Локальная разнотолщинность пленки, нм, не более 20 30 40
10 Светочувствительность, мдж/см2, не более 60 120 150
11 Рекомендуемый проявитель УПФ-1Б

 

ТУ 2378-011-29135749-2010 на серию фоторезистов ФП-4-04 в формате PDF, 301 кБ

Фоторезист ФП-051Т

Фоторезист ФП-051Т (ТУ 6-14-919-86) предназначен для реализации фотолитографических процессов в производстве больших интегральных схем

No Характеристики Норма
ФП-051Т
1 Внешний вид фоторезиста Жидкость красно-корич цвета без осадка
2 Внешний вид пленки фоторезиста Гладкая без разрывов
3 Кинематическая вязкость при (20+0,5) °C мм2/сек 15,5 - 19,5
4 Разрешающая способность, мкм, не более 2,0
5 Толщина пленки фоторезиста, мкм 1,3
6 Устойчивость пленки фоторезиста к проявителю, мин., не менее 15,0
7 Рекомендуемый проявитель УПФ-1Б

Фоторезист ФП-051Ку (ТУ Ф-11833392-0-2006)

Предназначенный для использования в качестве защитного светочувствительного материала в фотолитографических процессах при изготовлении полупроводниковых приборов, интегральных схем, металлизированных шаблонов, шкал, сеток, печатных плат и др.

No Характеристики Норма
ФП-051Ку-1,0 ФП-051Ку-2,0
1 Внешний вид фоторезиста Жидкость темно-красного цвета без осадка
2 Внешний вид пленки фоторезиста Гладкая без разрывов
3 Кинематическая вязкость при (20+0,5) °C мм2/сек 11,0-21,0 21,0-41,0
4 Разрешающая способность, мкм, не более 1,8 1,8
5 Толщина пленки фоторезиста, мкм 1,0-1,1 2,0-2,1
6 Устойчивость пленки фоторезиста к проявителю, мин., не менее 30,0 30,0
7 Рекомендуемый проявитель УПФ-1Б 

ТУ Ф-11833392-0-2006 на ФП-051Ку в формате PDF, 594 кБ

Фоторезист ФП-051Шу (ТУ 2378-012-29135749-2010)

Предназначен для реализации фотолитографических процессов в производстве фотошаблонов, для изготовления предварительно очувствленных заготовок фотошаблонов. Может использоваться в качестве защитного светочувствительного материала в фотолитографических процессах при изготовлении полупроводниковых приборов, интегральных схем, металлизированных шаблонов, шкал, сеток, печатных плат и др.

No Характеристики Норма
ФП-051Шу-0,5 ФП-051Шу-1,0
1 Внешний вид фоторезиста Жидкость темно-красного цвета без осадка
2 Внешний вид пленки фоторезиста Гладкая без разрывов
3 Кинематическая вязкость при (20+0,5) °C мм2/сек 6,0-11,0 11,0-21,0
4 Разрешающая способность, мкм, не более 0,5 0,8
5 Толщина пленки фоторезиста, мкм 0,5-0,6 1,0-1,1
6 Устойчивость пленки фоторезиста к проявителю, мин., не менее 25,0 30,0
7 Рекомендуемый проявитель УПФ-1Б 

ТУ 2378-012-29135749-2010 на ФП-051Шу в формате PDF, 294 кБ

Фоторезист ФП-05Ф, ФП-10Ф, ФП-15Ф, ФП-20Ф (ТУ Ф-11533389-0-2002)

Предназначен для реализации контактных и проекционных фотолитографических процессов в производстве полупроводниковых приборов и интегральных схем.

No Характеристики Норма
ФП-05Ф ФП-10Ф ФП-15Ф ФП-20Ф
1 Внешний вид фоторезиста Жидкость темно-красного цвета
2 Внешний вид пленки фоторезиста Гладкая без радиальных полос
3 Относительная скорость фильтрации, отн. ед., не более 0,01 (г-1) 0,01 (г-1) 0,01 (г-1) 0,01 (г-1)
4 Массовая доля воды, в процентах, не более 1,0 1,0 1,0 1,0
5 Разрешаюшая способность, мкм, не более 0,5 0,8 1,2 1,8
6 Толщина пленки фоторезиста, мкм 0,45-0,55 1-1,1 1,5-1,6 2,0-2,1
7 Кинематическая вязкость, сСт 6,0-11,0 11,0-21,0 15,0-35,0 21,0-41,0
8 Термостойкость, град.Цельсия 140,0 140,0 140,0 140,0
9 Устойчивость пленки фоторезиста к проявителю, мин., не менее 25,0 30,0 30,0 30,0
10 Локальная разнотолщинность пленки, нм, не более 10 10 10 10
11 Светочувствительность, мдж/см2, не более 40 50 65 80
12 Адгезия фоторезиста по 2 мкм. элементу хорошая
13 Проявитель УПФ-1Б

ТУ Ф-11533389-0-2002 на ФП-05Ф - ФП-20Ф с изм. 1 в формате PDF, 675 кБ

---
|
|
---
---
Plant.ruTopListSpyLOG