Травление металлов
Жидкостное травление алюминия, золота,
хрома и кремния
Справочная таблица по травлению некоторых материалов:
Алюминий и его сплавы
|
Логотипы, именные пластины, шкалы
|
ФН-11СКн
|
Раствор едкого калия, хлорное железо при концентрации 36-42 0Be
|
Хром
|
Логотипы, именные пластины, декорирование и фотошаблоны
|
ФП-10Ф, ФП-15Ф, ФП-20Ф, ФП-383, ФП-27-18БС
|
травление хрома
|
Стекло, травление тонких линий
|
Точные шкалы, сетки
|
ФП-383, ФП-25
|
1HF+5NH4F+5H2O
|
Золото
|
Работа на ювелирных украшениях
|
ФП-383, ФП-25
|
Травление золота
|
Ковар
|
Фотохимическое травление
|
ФП-27-18БС, ФП-20Ф, ФП-25, пигментная бумага
|
Хлорное железо при концентрации 420Be
|
Медь и сплавы
|
Именные пластины, чеканка, валы для глубокой печати
|
ФП-27-18БС, ФП-20Ф, ФП-25, пигментная бумага
|
Хлорное железо при концентрации 36-420Be
|
Магний
|
Именные пластины, формные пластины, декорирование
|
ФП-27-18БС, ФП-383, ФП-25
|
20% раствор азотной кислоты с добавками ПАВ
|
Никель и магнитные сплавы никеля
|
Производство небольших формных пластин
|
ФП-383, ФП-25, ФП-20Ф
|
Хлорное железо при концентрации 36-420Be
|
Платина
|
Тонкослойные переключатели,
поверхностная работа на ювелирных
изделиях
|
ФП-27-18БС, ФП-20Ф, ФП-25, пигментная бумага
|
3 части соляной кислоты + 1 часть азотной
кислоты (царская водка)
|
Нержавеющая сталь
|
Фотопроизводство небольших формных
пластин, именные пластины, шкалы,
декорирование
|
ФП-27-18БС, ФП-20Ф, ФП-25,
|
1HF+1HNO3
|
Сталь
|
Штампы, производство небольших формных
пластин
|
ФП-27-18БС, ФП-20Ф, ФП-25, пигментная бумага
|
Хлорное железо при концентрации 36-420Be
|
Титан
|
Фотопроизводство небольших формных
пластин
|
ФП-27-18БС, ФП-25
|
Плавиковая кислота; аммоний фторид 4-6%
|
Цинк
|
Именные пластины, шкалы,
фотопроизводство небольших формных
пластин; клише
|
ФП-27-18БС, ФП-25
|
1NHO3+1H2O
|
Серебро
|
Работа на ювелирных украшениях
|
ФП-383, ФП-25, ФП-М-09
|
1NH4ОН+1H2O2+4CH3OH
|
Вольфрам
|
Травление тонких пленок с подложек
|
ФП-383, ФП-25, ФП-М-09
|
1NH4ОН+2H2O2
|
Кремний
|
Мезоструктуры
|
ФП-201
|
HF+HNO3+CH3COOH + H2O
|
Окись кремния
|
Производство полупроводниковых структур
|
Позитивные и негативные фоторезисты
|
NH4F+HF+H2O
|
|