В качестве травителя используют смесь кислот HF/HNO₃. Следующие химические реакции суммируют основные механизмы изотропного травления кремния (стадии 1-4). Первоначально происходит окисление кремния до окиси кремния, а затем окись кремния травится фтористоводородой кислотой (HF) (стадия 4).

1. Образование двуокиси азота (NO₂)путем взаимодействия азотной кислоты с азотистой кислотой (HNO₂), которая вседга присутствует в небольших количествах в азотной кислоте.

   HNO₂ + HNO₃ = 2NO₂ + H₂O

2. Окисление кремния двуокисью азота.

   2NO₂ + Si = Si²⁺ + 2NO₂

3. Образование окиси кремния SiO₂

   Si²⁺ + 2(OH) = SiO₂ + H₂

4. Травление окиси кремния SiO₂

   SiO₂ + 6HF = H₂SiF₆ + H₂O

При высоких концентрациях HF скорость реакции травления определяется главным образом температурой травителя, что обусловлено сильной температурной зависимостью стадий 1-3 окисления кремния. При низких концентрациях HF скорость реакции травления контролируется диффузией из-за слабой температурной зависимости стадии 4 травления окиси кремния

Фтористоводородная кислота (HF) в отсутствии азотной кислоты (HNO₃) не взаимодействует с кремнием. Скорость травления окиси кремния (SiO₂) определяется в основном концентрацией HF.

Из-за высокой пористости окись кремния, нанесенная из паровой фазы (например CVD окисел) имеет более высокую скорость травления, чем термический окисел SiO₂

Для контроля воспроизводимости скорости травления следует температуру травителя контролировать в пределах ╠ 0.5°C.

Разбавление смеси кислот HF/HNO₃уксусной кислотой улучшает смачивание гидрофобной поверхности кремния травителем, что увеличивает и выравнивает скорость травления. Допированный кремний (n- и p-типа) травится быстрее, чем не допированный кремний.

Рекомендуемый состав для изотропного травления кремния:

HF : HNO₃ : CH₃COOH : H₂O = 10,2% + 39,5% + 23.2% + 27,1%

на основании материалов фирмы MicroChemicals