ФРАСТ-МЗакрытое Акционерное Общество НачалоОтправить письмо
---
---
|
|
---

ИСТОРИЯ ОТЕЧЕСТВЕННЫХ ФОТОРЕЗИСТОВ

Годы. Люди. Наука и Производство

В 1967 году в Научно-исследовательском институте органических полупродуктов и красителей ("НИОПИК") создана лаборатория фоторезистов. Заведующим лабораторией назначен талантливый химик Эрлих Р. Д.

В течение трех лет организовано производство сырьевой базы для позитивных фоторезистов на ряде предприятий химической промышленности СССР и выпущена первая партия позитивного фоторезиста ФП-383 для контактной печати на Опытном заводе "НИОПИК". Директор завода Коробов С. А.

1973 г. Лаборатория фоторезистов в "НИОПИК" преобразована в отдел фоторезистов, состоящий из двух лабораторий: лаборатории химии и технологии фоторезистов и лаборатории фотолитографии. Руководство отдела возложено на Эрлиха Р.Д., а заведующим лабораторией фотолитографии назначен выпускник МФТИ Гуров С.А. В отдел фоторезистов были приняты на работу молодые выпускники Московского физико-технического института и Московского химико-технологического института специалисты в области химической физики.

В 1970 - 1979 г.г. усилиями ведущих химиков и фотолитографов Динабург В.А., Сахаровой Н.А. Мальцевой С.П., Миловановой З.Ф., Гурова С.А., Кабановой Э.А., Глыбиной Н.С. и многих других значительно расширен ассортимент выпускаемых фоторезистов позитивных фоторезистов: ФП-27-18БС (для производства микроплат), КРП-82 (для офсетной печати), ФП-РН-7, ФП-27В, ФПРН-27В (для подложек из примесно-силикатных стекол), толстослойного ФП-25 (для гальванических процессов), негативных фоторезистов ФН-11 и ФН-11К (для производства гибких выводных рамок и печатных микроплат)/

В 1979 г. Правительство СССР приняло решение о строительстве завода "Анилин" в г. Ставрополе для промышленного производства фоторезистов проектной мощностью 250 тонн фоторезистов в год. Директором завода назначен Яковлев Б.З.

1980 г. Запущен первый цех опытно-экспериментальных установок на ПО "Анилин".

В 1980 - 1985 г.г. на ПО "Анилин" освоено производства сырьевой базы и промышленное производство фоторезистов ФП-383, ФП-РН-7С, ФП-25, ФП-051К (для рельефных подложек), ФП-051Ш (для фотошаблонных заготовок) и ФП-051Т (для производства БИС), ФП-4-04 для i-линии ртутных ламп. Много сил и энергии становлению завода "Анилин" отдали Яковлев Б.З., Садовый В.Г., Соколовский А.Н., Фролов В.Ф, Постолов В.С., Подерягин Г.М., Котлова Л.Ф., Кастерин С.В., Конинская О.П., Романова К.А. и многие другие. В эти годы ПО «Анилин» - превратился в ведущее предприятие г. Ставрополя.

1982 г. Отдел фоторезистов МНПО "НИОПИК" расширен до 4-х лабораторий. Были созданы лаборатории фотополимеризующихся композиций для производства печатных плат и лаборатория электронорезистов. Лабораторию электронорезистов возглавил заместитель председателя Госкомитета по науке и технике СССР, член-корреспондент АН СССР Дюмаев К.М.

В течение 1982-1983 г.г. под руководством Вайнера А.Я. впервые в СССР разработаны рецептуры сухих пленочных фоторезистов СПФ-1 и СПФ-2 для производства многослойных печатных плат.

В 1982-1985 г.г. группой сотрудников под руководством Герасимова Б.Г., Ивашенко С.П. разработаны рецептуры и организован выпуск фотополимеризующихся композиций для производства печатных плат марок ФПК-ТЗ (защитная), ФПК-ТГ (для гальванических процессов), ФПК-ТЩ (для травления), ФПК-ТМ, ФПК-ОМ и ФПК-ОК (маркировочные).

1984-1985 г.г. Запущено производство фоторезистов ФП-051К, ФП-051Ш, ФП-051Т и фотополимеризующихся композиций на ПО "Анилин".

1985 г. Разработаны технологии и организовано производство серии фоторезистов ФП-4-04 для i-линии ртутных ламп на ПО "Анилин".

1985-1988 г. Под руководством начальника отдела фоторезистивных материалов МНПО "НИОПИК" выпускника МФТИ Аскерова Д.Б. осуществлено переоснащение отдела фоторезистов и опытного завода МНПО "НИОПИК", а также ПО "Анилин" современным для того времени контрольно-измерительным, испытательным и исследовательским оборудованием, что значительно ускорило научно-технические разработки и позволило выйти на новый уровень исследований. Были запущены профилографы-профилометры с точностью измерения до 5 нм, электронная микроскопия, атомно-адсорбционная, ЭПР-, ЯМР-, УФ- ИК- и люминесцентная спектрометрии, жидкостная и газовая хроматография и другие аналитические и исследовательские методы. Отдел расширен до 6 лабораторий. Значительно улучшена структура финансирования разработок. Увеличилось количество публикаций, авторских свидетельств, технологических регламентов.

Все это позволило резко ускорить сроки и качество разработок по всем направлениям. В течение двух лет была создана серия позитивных фоторезистов ФП-051МК, ФП-151МК, ФП-251МК, для проекционной фотолитографии, что позволило предприятиям электроники СССР перейти на новый уровень интеграции интегральных схем.

Сотрудниками лаборатории электронорезистов Гнатко С.Л., Лимановой В.Ф. и другими разработаны и начат выпуск позитивных резистов для электроннолучевой литографии ЭЛП-9, ЭЛП-20, ЭЛП-35 и негативных электронорезистов ЭЛН-200, ЭЛН-216Н, ЭЛН-216В.

Разработана серия толстослойных позитивных фоторезистов для гальванических процессов ФП-201 (толщина слоя 6-9 мкм), ФП-4 (толщина слоя 4-7 мкм), ФП-15 (толщина слоя 15-20 мкм) и начат их выпуск на Опытном заводе. В лаборатории электронорезистов разработаны технологии изготовления рентгенорезистов позитивного РПФ-24 и негативного РНХ-209 марок.

1988 г. Освоен выпуск сеткотрафаретной композиции СТК-1 для производства печатных плат и полиграфии.

1988-1990 г.г. Начаты разработки фоторезистов для коротковолнового УФ - света. Освоен выпуск позитивных фоторезистов УФП-12 и УФП-26 (спектральный диапазон чувствительности 240-280 нм), УФП-50 для двухслойной фотолитографии, а также негативного фоторезиста для коротковолнового дипазона УФН-1. Руководитель работ Комагоров А. М.

1988 г. ОАО "Анилин" вышел на проектную мощность - примерно 300 тонн фоторезистов в год.

1988 г. Под руководством Аскерова Д.Б., Гурова С.А., Вайнера А.Я. начата разработка фоторезистов с химическим усилением для лазерной литографии и термостойких полиимидных фоторезистов.

1990-1991 г.г. Усилиями заместителя генерального директора НПО "Карболит" (Кемерово) Крючкова В.В. создан специализированный цех производства новолачных смол с низким содержанием микропримесей металлов на НПО "Карболит" в Кемерово. Смолы прошли успешные испытания на предприятии по производству фоторезистов в ГДР. Большой вклад внесли главный химик НПО «Карболит» Кумсков В.Н. и ведущий инженер Пугина З.И.

1990 г. По предложению начальника отдела фоторезистивных материалов Аскерова Д.Б. принято решение о создании фотолитографического испытательного центра фоторезистов для субмикронной литографии, а также участка микрофильтрации фоторезистов в гермозонах в МНПО "НИОПИК".

1991 г. На основании постановления ЦК КПСС и Совмина СССР от 1988 г.г. выделены средства для закупки импортных линий фильтрации и фасовки для производства фоторезистов в МНПО "НИОПИК" в чистых помещениях.

1991-1993 г. Продолжены разработки фоторезистов для лазерной и электроннолучевой литографии.

1994-1996 г.г. Катастрофическое падение производства элементной базы микроэлектроники и, как следствие, производства фоторезистов.

1997 г. Признание ОАО "Анилин" неплатежеспособным, введение арбитражного управления.

1997-1998 г.г. Для совершенствования принципиальной схемы производства фоторезистов на ОАО "Анилин" с учетом текущих потребностей предприятий микроэлектроники привлечены сотрудники ЗАО «Фраст-М». Представлена кредиторам ОАО "Анилин" схема реструктуризации и изменение технологической схемы производства. Минэкономики РФ одобряет эту идею. На базе ОАО «Анилин» создано производственное предприятие ОАО «Анилинпром», директором назначен Постолов В.С. Производство фоторезистов было продолжено.

1997-2001 г. Президент и Правительство России настойчиво пытаются сохранить производство фоторезистов на ОАО "Анилин" для обеспечения оборонного заказа. Директор ЗАО «Фраст-М» Аскеров Д.Б. представляет интересы ОАО «Анилин» на всех совещаниях в г. Москве и г. Ставрополе. Есть поддержка со стороны руководителя Северо - Кавказского межрегионального территориального органа ФСФО России Сербина П.В и руководителя департамента экономики химической, микробиологической и медицинской промышленности Минэкономики Елизарьева В.Е.

2001-2002 г.г. Потребность в фоторезистах продолжает падать. По решению арбитражного суда проведено конкурсное управление и распродажа имущества предприятия ОАО "Анилин". Производство фоторезистов на ОАО «Анилин» прекращено полностью. Распродаются заводские остатки.

2002 г. Совместными усилиями специалистов ЗАО "Фраст-М" (директор Аскеров Д.Б.) и ЗАО "Элма-Хим" (директор Хожанов В.В.) организовано небольшое производство позитивных фоторезистов по усовершенствованной схеме в Зеленограде. Следует отметить большой вклад сотрудников ЗАО «Элма-Хим» Юдиной В.И. и Селиванова Г.К.

В последующие годы сотрудниками ЗАО «Фраст-М» (Сулейманов И.Е., Юдина В.И. Зацепилин В.В., Корчагин А.Г., Корнюхин Н.В., Шландаков В.И., Чеботарева Г.Б., Сухова Т.А.) восстановлен выпуск всего ассортимента выпускавшихся на ОАО "Анилин" позитивных фоторезистов и начаты разработки нового поколения фоторезистов.

2003-2004 г.г. Восстановлено производство ассортимента выпускавшихся на ОАО "Анилин" позитивных фоторезистов по новой технологии.

2005 г. Начат выпуск отечественного фоторезиста для аэрозольного распыления ФП-РН-7Сэ и восстановлено производство негативных фоторезистов ФН-11С и ФН-11Ск на базе импортного сырья.

2005-2006 г. г. Начат выпуск фоторезистов с субмикронным разрешением серии ФП-05, ФП-10Ф, ФП-15Ф и фоторезиста ФП-51Ки для ионной бомбардировки.

2007-2008 г.г. Разработан и организован выпуск фоторезиста для взрывной фотолитографии ФПН-20-ИЗО.

2008 г. Разработан комплект методик для входных испытаний импортных позитивных фоторезистов, адаптированных под отечественное оборудование.

2009 г. Начат выпуск сольвентов для позитивных фоторезистов РПФ-У, РПФ-25Ф, РПФ-383Ф.

2010 г. Организовано производство буферного проявителя УПФ-1Б для позитивных фоторезистов.

2011 г. Организован выпуск снимателей для позитивных фоторезистов органического СПР-01Ф и щелочного СПР-02Щ.

2011 г. На ОАО "Ангстрем" внедрен новый негативный фоторезист ФН-11С-ФД для изготовления выводных рамок на лакофольговом диэлектрике.

2011 г. Создана новая производственная база для выпуска фоторезистов в Конаковском районе, Тверской области с проектной мощностью 20 тонн в год. Закуплено и установлено технологическое и контрольно-измерительное оборудование.

2012 г. Восстановлен выпуск фоторезистов ФП-РН-27В и ФП-27В.

2012 г. Разработан проявитель для голографии ПГФ-1А.

2013 г. Разработан состав «Сниматель резистов универсальный СР-13Ф».

2014 г. Разработана композиция «Усилитель адгезии фоторезистов СИЛ-А-01».

2014 г. Разработана установка для микрофильтрации фоторезистов УФП-16.

2014 г. Начаты работы по программе импортозамещения фоторезистов.

2014-2015 Завершены разработки высококачественных фоторезистов ФП-9120 и ФП-9120 экстра. Выпущены новые технические условия.

2015-2016 г.г. Разработаны десять новых композиций - аналогов импортных фоторезистов и выпущены технические условия.

2016 г. Срок гарантийного хранения фоторезиста ФП-383 увеличен до 12 месяцев.

2016 г. Сроки гарантийного хранения фоторезистов ФП-9120 и ФП-9120 экстра увеличены до 12 месяцев.

2016 г. Налажен выпуск фоторезистов в мелкой фасовке 0,25 и 0,5 литра для учебных и исследовательских институтов.

2017 г. Проведен монтаж схемы производства фоторезистов с низким содержанием металлов на основе стеклянных реакторов.

2017 г. Проведены сравнительные испытания импортного фоторезиста Microposit S1813 фирмы Dow и отечественного фоторезиста ФП-3515 на одном из предприятий микроэлектроники России. Установлено, что фоторезист ФП-3515 полностью соответствует импортному фоторезисту Microposit S1813 и может быть использован при отсутствии последнего.

2017 г. Разработаны и переданы на испытания потребителям составы 4 марок безметальных проявителей для позитивных фоторезистов.

2017 г. Выпущен буклет «Фоторезисты жидкие для электроники-2017» и разослан по предприятиям электроники Росcии.

2017 г. Начаты разработки серии экологически безопасных фоторезистов класса ЭКО: ФП-25 ЭКО, ФП-383 ЭКО, ФП-201 ЭКО, ФП-9120 ЭКО и ФП-2550 ЭКО.

2018 г. Выпущены ТУ на фоторезист ФП-051Ки для процессов травления ионной бомбардировкой и на толстослойный фоторезист ФП-201 специального назначения.

2018 г. Начата разработка аналога импортного фоторезиста AZ 4533.

2019 г. Завершены разработки серии фоторезистов класса ЭКО: ФП-25 ЭКО, ФП-383 ЭКО, ФП-201 ЭКО, ФП-9120 ЭКО и ФП-2550 ЭКО. Фоторезисты класса ЭКО не содержат химически опасные реактивы N,N-диметилформамид, 1,4-диоксан, фенол.

2019. Выпущен новый, дополненный и исправленный буклет «Фоторезисты жидкие для электроники-2019»

2019 г. Завершена разработка аналога импортного фоторезиста AZ 4533. Параметры отечественного фоторезиста ФП-2538 не уступают параметрам фоторезиста AZ-4533.

2019 г. Проведены первые успешные испытания фоторезиста класса ФП-383 ЭКО на предприятиях электроники.

2019 г. Выпущены технические условия на проявители безметальные для фоторезистов и начаты их поставки взамен импортных.

2019 г. Изготовлена и осуществлена первая поставка отечественной мини установки фильтрации фоторезистов УФР-16.

Историческая справка основана на воспоминаниях живущих сотрудников. Мы будем признательны всем за дополнительную информацию и уточнения. Пишите нам на наш электронный адрес info@frast.ru.

---
|
|
---
---
Plant.ruTopListSpyLOG