ФОТОРЕЗИСТ НЕГАТИВНЫЙ, БЕЗМЕТАЛЬНЫЙ ФН – 11С-МФ

НЕГАТИВНЫЙ ФОТОРЕЗИСТ ОСОБОЙ ЧИСТОТЫ

  1. Отличительной особенностью этого фоторезиста является низкое содержание примесей металлов:
  2. Спектральная чувствительность фоторезиста 330 - 420 нм

Фоторезист может использоваться как в производстве интегральных микросхем, так и при изготовлении высококачественных печатных микроплат. Благодаря низкому содержанию примесей металлов, фоторезист ФН-11С-МФ может применяться как превосходный светочувствительный, конструкционный, изолирующий материал.

Фоторезист ФН-11С-МФ устойчив и в кислых, и щелочных растворах как в процессах травления, так и в процессах гальванического осаждения металлов.