![]() |
![]() ![]() |
![]() |
![]() ![]() ![]() ![]() ![]() |
![]() |
![]() |
![]() |
![]() |
||||||||||||||
![]() |
|
![]() |
||||||||||||
![]() |
![]() |
![]() |
||||||||||||||||||||||||
![]() |
![]() |
![]() |
||||||||||||||||||||||
Фоторезист ФПН-20-ИЗО Фоторезист ФПН-20-ИЗО является позитивным фоторезистом, однако, способен к обращению изображения с образованием негативного образа маски. Предназначен для использования в технике взрывной литографии.
Инструкция по применению ФПН-20-ИЗО
|
||||||||||||||||||||||||
![]() |
||||||||||||||||||||||||
![]() |
![]() |
![]() |
|||||||||||||
![]() |
|
![]() |
|||||||||||
![]() |
![]() |
![]() |
![]() |
||||
![]() |
![]() ![]() ![]() |
|
![]() |
|
![]() |
![]() |