Фоторезисты для солнечной энергетики ФПН-20-ИЗО в технике взрывной литографии


	Новости \| Технология \| Продукция \| Услуги \| Цены \| О компании \| Потребители	Поиск \| Ссылки \| Обратный звонок

Фоторезист ФПН-20-ИЗО

Фоторезист ФПН-20-ИЗО является позитивным фоторезистом, однако, способен к обращению изображения с образованием негативного образа маски. Предназначен для использования в технике взрывной литографии.

N^o	Наименования показателя	Норма показателя	Норма показателя
1	Вязкость	сСт	17-20
2	Толщина сходная	мкм	1,8-2,2
3	Чувствительность	мдж/см²	30-60
4	Стойкость в проявителе позитивного изображения, не менее	мин	30
5	Проявитель	УПФ-1Б

Инструкция по применению ФПН-20-ИЗО


	Реклама на серверах микроэлектроники

(У) 1999-2017 "ФРАСТ-М"
(p) 1999-2015 COMPNET Network