|
||||||||||||||
ИНСТРУКЦИЯ ПО ПРИМЕНЕНИЮ СНИМАТЕЛЯ СПР-01ФСТАДИЯ СНЯТИЯ ПЛЕНКИ ФОТОРЕЗИСТА ЯВЛЯЕТСЯ ИСКЛЮЧИТЕЛЬНО ВАЖНОЙ.Неаккуратное снятие пленки фоторезиста приводит к образованию дефектов и снижению выхода годных изделий. Сниматель пленок резистов в производстве полупроводниковых структур должен соответствовать определенным требованиям:
В отечественной микроэлектронике для снятия пленок позитивных фоторезистов используются в основном три типа устаревших снимателей:
Нежелательно в качестве снимателя использовать раствор щелочи. Такой раствор является плохим растворителем для фоторезиста и оставляет трудноудаляемые следы пленки на подложке. Нежелательно в качестве снимателя использовать легкокипящие растворители. Ацетон имеет низкую вязкость, взвесь фоторезиста оседает в ацетоне быстро и на подложке остаются трудноудаляемые, не растворившиеся следы пленки. Нежелательно в качестве снимателя использовать N,N диметилформамид. Для снятия задубленной пленки фоторезиста N,N-диметилформамид обычно нагревают. При небольшом нагреве N,N-диметилформамида в воздухе образуются высокие концентрации паров этого растворителя, что ощущается по сильному запаху. Эти пары крайне опасны! Ниже выдержка из сертификата безопасности на растворитель N,N-диметилформамид: MSDS РАЗДЕЛ 3: ВОЗМОЖНЫЕ ОСТРЫЕ ВОЗДЕЙСТВИЯ НА ЗДОРОВЬЕ:МУТАГЕННЫЕ ВОЗДЕЙСТВИЯ: является мутагеном для клеток млекопитающих. ТЕРАТОГЕННОЕ ДЕЙСТВИЕ - воздействует на эмбриональное развитие плода. Классифицируется как токсин для репродуктивной женской системы и возможно для репродуктивной мужской системы. ДИМЕТИЛФОРМАМИД является ядом для крови, почек, печени, центральной нервной системы. Длительное воздействие этого химиката на человека может привести к повреждениям органов. По указанным причинам N,N-диметилформамид запрещен для использования на предприятиях электроники на Западе. Сниматель СПР-01Ф гарантирует эффективное удаление пленки фоторезиста с подложки с помощью процедуры четырех ванн в соответствии с инструкцией. Инструкция по работе со снимателем СПР-01Ф Методика снятия пленки фоторезиста должна гарантировать полное удаление. Отзывы потребителей снимателя СПР-01ФПроцедура четырех ванн Методика снятия пленки фоторезиста должна гарантировать полное удаление следов полимерной взвеси. Как правило, используют, так называемую, четырех ванную процедуру: В первую и вторую ванны наливается сниматель СПР-01Ф. В первой ванне удаляется основной объем пленки фоторезиста. Во второй ванне удаляются с подложки все следы фоторезиста. Когда первая ванна насыщается взвесью снятых пленок фоторезистов, ванну ополаскивают, в нее заливается свежий раствор снимателя СПР-01Ф, ванны N1 и N2 меняются местами. В третью ванну наливается изопропиловый спирт класса электронной чистоты. В четвертую ванну наливается деионизованная вода. Подложка ополаскивается в изопропиловом спирте в третьей ванне, далее подложка ополаскивается деионизованной водой в четвертой ванне и сушится. Условия безопасной работы со снимателем СПР-01Ф аналогичны условиям работы с органическими растворителями. Сниматель СПР-01Ф с можно использовать:
|
||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
|
|||||||||||||
|
||||