ФРАСТ-МЗакрытое Акционерное Общество НачалоОтправить письмо
---
---
|
|
---

В 1967 году в Научно-исследовательском институте органических полупродуктов и красителей ("НИОПИК") создана лаборатория фоторезистов. Заведующим лабораторией назначен талантливый химик Эрлих Р. Д.

За три года организовано производство сырьевой базы для позитивных фоторезистов на ряде предприятий химической промышленности СССР и выпущена первая опытная партия позитивного фоторезиста ФП-383 для контактной печати на Опытном заводе "НИОПИК". Директор завода Коробова С.А.

1973 г. Лаборатория фоторезистов в "НИОПИК" преобразована в отдел фоторезистов, состоящий из двух лабораторий: лаборатории химии и технологии фоторезистов и лаборатории фотолитографии. Руководство отдела возложено на Эрлиха Р.Д., а заведующим лабораторией фотолитографии назначен выпускник МФТИ Гуров С.А.

В 1970 - 1979 г.г. усилиями ведущих химиков и фотолитографов Динабург В.А., Сахаровой Н.А. Мальцевой С.П., Миловановой З.Ф., Гурова С.А., Кабановой Э.А., Глыбиной Н.С. и многих других значительно расширен ассортимент выпускаемых фоторезистов позитивных фоторезистов ФП-27-18БС (для производства микроплат), КРП-82 (для офсетной печати), ФП-РН-7, ФП-27В, ФПРН-27В (для подложек из примесно-силикатных стекол), толстослойного ФП-25 (для гальванических процессов), негативных фоторезистов ФН-11 и ФН-11К (для гибких выводных рамок и печатных микроплат).

В 1979 г. Правительство СССР приняло решение о строительстве завода "Анилин" в г. Ставрополе для промышленного производства фоторезистов проектной мощностью 250 тонн фоторезистов в год. Директором завода назначен Яковлев Б.З.

1980 г. Запущен первый цех опытно-экспериментальных установок на ПО "Анилин".

В 1980 - 1985 г.г. на ПО "Анилин" усилиями ведущих специалистов ПО "Анилин" освоено производства сырьевой базы и промышленное производство фоторезистов ФП-383, ФП-РН-7, ФП-25, ФП-051К (для рельефных подложек), ФП-051Ш (для фотошаблонных заготовок) и ФП-051Т (для производства БИС), ФП-4-04 для i-линии ртутных ламп. Много сил и энергии становлению завода "Анилин" отдали Яковлев Б.З., Садовый В.Г., Соколовский А.Н., Фролов В.Ф, Постолов В.С., Подерягин Г.М., Котлова Л.Ф., Кастерин С.В., Конинская О.П., Романова К.А. и многие другие.

В 1982 г. отдел фоторезистов "НИОПИК" расширен до 4- х лабораторий. Были созданы лаборатории фотополимеризующихся композиций для производства печатных плат и лаборатория электронорезистов. Лабораторию электронорезистов возглавил заместитель председателя Госкомитета по науке и технике СССР Дюмаев К.М.

В течение 1982-1983 г.г. под руководством Вайнера А.Я. впервые в СССР разработаны рецептуры сухих пленочных фоторезистов СПФ-1 и СПФ-2 для производства многослойных печатных плат.

В 1982-1985 г.г. группой сотрудников под руководством Герасимова Б.Г., Ивашенко С.П. разработаны рецептуры и организован выпуск фотополимеризующихся композиций для производства печатных плат ФПК-ТЗ (защитная), ФПК-ТГ (для гальванических процессов), ФПК-ТЩ (для травления), ФПК-ТМ, ФПК-ОМ и ФПК-ОК (маркировочные).

1984-1985 г.г. Запущено производство фоторезистов ФП-051К, ФП-051Ш, ФП-051Т и фотополимеризующихся композиций на ПО "Анилин".

1985 г. Организовано производство серии фоторезистов ФП-4-04 для i-линии ртутных ламп на ПО "Анилин".

1985-1988 г. Проведено переоснащение отдела фоторезистов и опытного завода МНПО "НИОПИК" и ПО "Анилин" современным для того времени контрольно-измерительным, испытательным и исследовательским оборудованием, что значительно ускорило научно-технические разработки и позволило выйти на новый уровень исследований и разработок. Были запущены профилографы-профилометры с точностью измерения 5 нм, электронная микроскопия, атомно-адсорбционная, ЭПР-, ЯМР-, УФ- ИК- и люминесцентная спектрометрия, жидкостная и газовая хроматография и другие аналитические и исследовательские методы.

В 1987 руководителем отдела фоторезистивных материалов МНПО "НИОПИК" назначен выпускник МФТИ Аскеров Д.Б. Отдел расширен до 6 лабораторий. Улучшена структура финансирования разработок.

Все это позволило резко ускорить сроки и качество разработок по всем направлениям. В течение двух лет была создана серия позитивных фоторезистов ФП-051МК, ФП-151МК, ФП-251МК, для проекционной фотолитографии.

Сотрудниками лаборатории электронорезистов Гнатко С.Л., Лиманова В.Ф. и другими разработаны и начат выпуск позитивных резистов для электроннолучевой литографии ЭЛП-9, ЭЛП-20, ЭЛП-35 и негативных электронорезистов ЭЛН-200, ЭЛН-216Н, ЭЛН-216В.

Серия толстослойных позитивных фоторезистов для гальванических процессов ФП-201 (толщина слоя 6-9 мкм), ФП-4 (толщина слоя 4-7 мкм), ФП-15 (толщина слоя 15-20 мкм) создана Миловановой З.Д. и начат их выпуск на Опытном заводе. В лаборатории электронорезистов разработаны технологии изготовления рентгенорезистов позитивного РПФ-24 и негативного РНХ-209.

1988 г. Освоен выпуск сеткотрафаретной композиции СТК-1 для производства печатных плат и полиграфии.

1988-1990 г.г. Начаты разработки фоторезистов для коротковолнового УФ - света. Освоен выпуск позитивных фоторезистов УФП-12 и УФП-26 (спектральный диапазон чувствительности 240-280 нм), УФП-50 для двухслойной фотолитографии, а также негативного фоторезиста для коротковолнового дипазона УФН-1. Руководитель Комагоров А. М.

1988 г. ОАО "Анилин" вышел на проектную мощность - примерно 300 тонн фоторезистов в год.

1988 г. Начата разработка фоторезистов с химическим усилением для лазерной литографии и термостойких полиимидных фоторезистов.

1990-1991 г.г. Создан специализированный цех производства новолачных смол с низким содержанием микропримесей металлов на НПО "Карболит" в Кемерово.

1990 г. Принято решение о создании фотолитографического испытательного центра фоторезистов для субмикронной литографии в МНПО "НИОПИК".

1991 г. Выделены средства для закупки линий импортных фильтрации и фасовки для организации производства фоторезистов в МНПО "НИОПИК" в чистых помещениях.

1991-1993 г. Продолжены разработки фоторезистов для лазерной и электроннолучевой литографии.

1994-1996 г.г. Катастрофическое падение производства элементной базы микроэлектроники и, как следствие, производства фоторезистов.

1997 г. Признание ОАО "Анилин" неплатежеспособным, введение арбитражного управления.

1997-1998 г.г. пересмотрена принципиальная схема производства фоторезистов на ОАО "Анилин" с учетом текущих потребностей предприятий микроэлектроники.

1997-2001 г. Президент и Правительство России настойчиво пытались сохранить производство фоторезистов на ОАО "Анилин" для обеспечения оборонного заказа. Проведена реструктуризация ОАО "Анилин".

2001-2002 г.г. По решению арбитражного суда проведено конкурсное управление и распродажа имущества предприятия ОАО "Анилин".

2002 г. Совместными усилиями специалистов ЗАО "Фраст-М" (директор Д.Б. Аскеров) и ЗАО "Элма-Хим" (директор Хожанов В.В.) организовано малотоннажное производство позитивных фоторезистов по усовершенствованной схеме. Большая работа была проведена в этот период Юдиной В.И., Селивановым Г.К.

2003-2004 г.г. Восстановлено производство ассортимента выпускавшихся на ОАО "Анилин" позитивных фоторезистов.

2005 г. Начат выпуск отечественного фоторезиста для аэрозольного распыления ФП-РН-7Сэ и восстановлено производство негативных фоторезистов ФН-11С и ФН-11Ск на базе импортного сырья.

2005-2006 г. г. Начат выпуск фоторезистов с субмикронным разрешением серии ФП-05, ФП-10Ф, ФП-15Ф и фоторезиста ФП-51Ки для ионной бомбардировки.

2007-2008 г.г. Разработан и организован выпуск фоторезиста для взрывной фотолитографии ФПН-20-ИЗО.

2008 г. Разработан комплект методик для входных испытаний импортных позитивных фоторезистов.

2009 г. Начат выпуск сольвентов для позитивных фоторезистов РПФ-У, РПФ-25Ф, РПФ-383Ф.

2010 г. Организовано производство буферного проявителя УПФ-1Б для позитивных фоторезистов.

2011 г. Организован выпуск снимателей для позитивных фоторезистов органического СПР-01Ф и щелочного СПР-02Щ.

2011 г. На ОАО "Ангстрем" внедрен новый негативный фоторезист ФН-11С-ФД для изготовления выводных рамок на лакофольговом диэлектрике.

2011 г. Создана производственная база для производства фоторезистов в Конаковском районе Тверской области.

Историческая справка основана на воспоминаниях живущих сотрудников. Мы будем признательны всем за дополнительную информацию и уточнения. Пишите нам на наш электронный адрес info@frast.ru.

---
|
|
---
---
Plant.ruTopListSpyLOG