ПОЗИТИВНЫЙ ФОТОРЕЗИСТ ФП-25МТ

Толстослойный фоторезист для экспонирования i-линией УФ-света. Может экспонироваться также интегральным светом в диапазоне 350-430 нм

Фоторезист предназначен для создания защитной маски при проведении операций глубинного и профильного травления кремния, а также гальванического осаждения металлов.

Фоторезист ФП-25МТ обладает более высоким контрастом и эластичностью пленки, по сравнению с фоторезистом ФП-25.

Фоторезист обеспечивает термостойкость профиля стенок до 120 ⁰С. При дополнительном экспонировании коротковолновым ультрафиолетом 240-280 нм термостойкость может быть увеличена до 140 ⁰С.

Рекомендации по применению

Нанесение

Центрифугирование при 2000 об/мин , в течении 2-х минут.

Cушка

• Первая стадия: 20 ⁰С, 20 мин.
• Вторая стадия: 95 ⁰С, 30 мин.

Экспонирование

Оптимальная доза экспонирования 150-200мДж/см² УФ-светом в диапазоне 350-430 нм.

Проявление

Проявитель УПФ-1Б разбавленный дистиллированной водой, в соотношении 1:4, время проявления 45-50 сек при температуре 18-22 ⁰С.

Задубливание

• Первая стадия: 110 ⁰С, 45 мин.
• Вторая стадия: 120 ⁰С, 45 мин.

Удаление

Для удаления пленки фоторезиста ФП-25МТ рекомендуется экологически безопасный сниматель СПР-01Ф или кислородная плазма.

Хранение

Хранить в сухом помещении при температурах 10-21 ⁰С в закрытых коричневых стеклянных бутылках. Гарантийный срок хранения - 6 месяцев от даты розлива.