ФОТОРЕЗИСТ НЕГАТИВНЫЙ, БЕЗМЕТАЛЬНЫЙ ФН – 11С-МФ

НЕГАТИВНЫЙ ФОТОРЕЗИСТ ОСОБОЙ ЧИСТОТЫ

1. Отличительной особенностью этого фоторезиста является низкое содержание примесей металлов:
• Железо   < 1 ppm
• Натрий   < 1.5 ppm
• Алюминий   <0,5 ppm
• Цезий   <0,5 ppm
• Медь   <0,5 ppm
• Золото   <0,5 ppm
• Никель   <0,5 ppm
• Платина   <0,5 ppm
• Калий   <0,5 ppm
• Серебро   <0,5 ppm
• Титан   <0,5 ppm
• Цинк   < 0.5 ppm
• Бор   < 1 ppm
• Сурьма   <0,5 ppm
• Мышьяк   <0,5 ppm
• Фосфор   <0,5 ppm
2. Спектральная чувствительность фоторезиста 330 - 420 нм

Фоторезист может использоваться как в производстве интегральных микросхем, так и при изготовлении высококачественных печатных микроплат. Благодаря низкому содержанию примесей металлов, фоторезист ФН-11С-МФ может применяться как превосходный светочувствительный, конструкционный, изолирующий материал.

Фоторезист ФН-11С-МФ устойчив и в кислых, и щелочных растворах как в процессах травления, так и в процессах гальванического осаждения металлов.